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顯微熔點(diǎn)儀/高溫?zé)崤_(tái)/高溫加熱臺(tái) HAD-CK-X-4
發(fā)布時(shí)間：2014-03-11瀏覽次數(shù)：1434返回列表
顯微熔點(diǎn)儀/高溫?zé)崤_(tái)/高溫加熱臺(tái)
型號(hào)：HAD-CK-X-4
儀器特點(diǎn)：
熱臺(tái)是采用不銹鋼，并有隔熱保護(hù)裝置。
溫度控制是具有的模糊邏輯控制，P．I．D控制，數(shù)顯裝置。
熱臺(tái)升溫可自行設(shè)定，可調(diào)，即刻恒溫。
測(cè)定熔點(diǎn)溫度范圍：室溫—320℃
工作區(qū)域：30*30mm，中心孔直徑4mm
控制度：±0.5%
溫度顯示度：±1℃
