個標(biāo)準(zhǔn)電鍍廠所需的設(shè)備有哪些您知道嗎?鍍層與鍍液性能測試及儀器，電鍍輔助設(shè)備，以及電鍍生產(chǎn)線 這三大類是不可少的，里面又包含了多少設(shè)備，這些您知道嗎?今天我們就來總結(jié)下?？纯茨碾婂儚S是否“達(dá)標(biāo)”。

 

、鍍層與鍍液性能測試及儀器

（）電鍍層性能測試

1、概述

實際條件考核：暴嗮試驗、大氣腐蝕試驗等

模擬條件考核：老化試驗、潮濕試驗、鹽霧試驗

2、電鍍層外觀檢測

(1)表面缺陷 麻點、針孔、脫皮、起泡

(2)光澤性 光澤、半光澤、亞光

(3)覆蓋性 上鍍面積、復(fù)雜零件

(4)色澤 黑鈍化、藍(lán)白鈍化

3、鍍層的結(jié)合力

鍍層結(jié)合力是鍍層與基體金屬或中間鍍層的結(jié)合強度，即單位表面積的鍍層從基體金屬或中間鍍層上剝離所需要的力。

參考標(biāo)準(zhǔn)：GB/T 5270-200X《金屬基體上的覆蓋層(電沉積和化學(xué)沉積層)附著強度試驗方法》。

般情況下，車間內(nèi)只做定性檢驗。具體檢驗方法有如下幾種：

(1)彎曲試驗 ；

(2)劃痕試驗；

(3)銼刀試驗；

(4)加熱試驗

4、電鍍層厚度測量

電鍍層厚度是衡量鍍層質(zhì)量的重要標(biāo)。它在很大程度上影響著產(chǎn)品的可靠性和使用壽命。

鍍層厚度檢驗方法有破壞法和非破壞法兩大類。

破壞檢測法：陽溶解法(zui常用的鍍層厚度測量方法)，金相顯微法(鍍層厚度測量的仲裁方法)等;

非破壞檢測法：磁性法，渦流法，X(β)射線光譜測定法。

5、電鍍層孔隙率測量

應(yīng)用較廣的鍍層孔隙率測試方法使用的是鐵試劑試驗法和潮濕硫(硫華)試驗法。

參考標(biāo)準(zhǔn)：

GB/T 17721-2019 《金屬覆蓋層 孔隙率試驗 鐵試劑試驗》

本方法特別適用于程用鉻覆蓋層。

GB/T 18179-2000 《金屬覆蓋層 孔隙率試驗 潮濕硫(硫華)試驗》。

本方法特別適用于在還原硫氣氛中不明顯變色的各種單層或組合覆蓋層，例如：金、鎳、錫、錫-鉛、鈀及其合金。

6、電鍍層硬度試驗

(1) 劃痕法：劃痕法的設(shè)備簡單，銼刀硬度法即是其中的種。

(2) 壓痕法：壓痕法使用專用的顯微硬度計或附有硬度測定裝置的金相顯微鏡。

(3)  維氏和努氏顯微硬度測定

參考標(biāo)準(zhǔn)：GB/T9790-1988 《金屬覆蓋層及其他有關(guān)覆蓋層 維氏和努氏顯微硬度試驗》。

7、電鍍層延展性測量

延展性是材料的種性能，它不受試樣尺寸的影響，但覆蓋層厚度可能影響線性延伸性的數(shù)值。

測量金屬覆蓋層延展性的方法可分為二大類：

(1)在有基體的覆蓋層上測量，

(2)在去除基體后的覆蓋層箔上測量。

參考標(biāo)準(zhǔn)：GB/T15821-2019 《金屬覆蓋層 延展性測量方法》

8、中性鹽霧試驗(NSS試驗)

(1)試驗溶液

將化學(xué)純的氯化鈉溶于蒸餾水或去離子水中，其濃度為50 g/L±5 g/L;溶液的pH值為6.5-7.2，使用前須過濾。

(2)試驗條件

①試驗溫度：35℃±2℃;

②相對濕度：>95%;

③鹽水溶液pH值：6.5-7.2;

④降霧量：1.5±0.5mL/(h·80cm2);

⑤噴霧時間：連續(xù)噴霧。應(yīng)按被試覆蓋層或產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)的要求而定。

（二）電鍍?nèi)芤盒阅軠y試及儀器

1、概述

電鍍?nèi)芤菏菦Q定電鍍層質(zhì)量的zui基本和zui主要的因素。

如pH值、電導(dǎo)率、電流效率、表面張力、分散能力、化曲線。

2、pH計

pH試紙和pH計

pH計測量的基本原理:

測定個電電位與氫離子濃度相關(guān)的電與參比電之間的電位差。

3、化曲線的測定

化曲線在電鍍研究和實際生產(chǎn)中都有著十分重要的意義。例如:鍍層致密、光亮程度就取決于溶液的化度大小。

動態(tài)恒電位掃描法

掃描電壓，然后用函數(shù)記錄儀或示波器連續(xù)記錄下電位-電流關(guān)系曲線的方法。

4、霍爾槽試驗

霍爾槽是種試驗效果好、操作簡單、所需溶液體積小的小型電鍍試驗槽。

電流密度、溫度、pH值、鍍液成分、分散能力、整平性。

（三）電鍍中使用的分析儀器

1、概述

電鍍中的使用的分析儀器

(1) 原子吸收分光光度儀(AAS)

(2) 紫外-可見分光光度儀(UV-VIS)

(3) 循環(huán)伏安分析儀(CVS)

(4) X射線能量色散光譜儀(EDX)

(5) 掃描電子顯微鏡(SEM)

(6) X射線測厚儀(XRF測厚)

二、電鍍輔助設(shè)備

1、機械設(shè)備

(1) 磨光 :用旋轉(zhuǎn)的磨光輪上磨料對件表面行磨削加過程。

(2) 拋光 :用涂有拋光膏的拋光輪對零件表面行加的過程。

(3) 滾光：將零件與磨削介質(zhì)放滾桶中做低速旋轉(zhuǎn)，靠零點和磨料的相對運動行光飾處理的過程。

2、超聲波設(shè)備

作用：強化除油、除垢和清除表層氧化膜等表面凈化過程，促電鍍過程的電化學(xué)反應(yīng)，以實現(xiàn)常規(guī)電鍍和清洗方式所不能達(dá)到的效果。

3、過濾機

過濾機濾芯分類：TYR系列(紗繞濾芯)、TYZ系列(紙質(zhì)濾芯)、TYS系列(微孔塑料濾芯)、TYB系列(布質(zhì)濾芯)、TYC系列(燒結(jié)陶瓷濾芯)、TYJ系列(金屬纖維濾芯)

4、純水機

純水機目前采用機理有：離子交換、反滲透等，對原水行過濾處理(砂缸、碳缸)后行離子交換或反滲透處理。

5、水冷機

冷卻方式為冷卻管冷卻。

優(yōu)點：結(jié)構(gòu)簡單、容易制安裝、不需要專門的換熱器及溶液循環(huán)水泵;

缺點：占用了槽子內(nèi)空間，影響裝載量，由于槽液接近靜止?fàn)顟B(tài)，所需換熱面積大。

6、空氣壓縮機

空氣壓縮機是氣源裝置中的主體，它是將原動機(通常是電動機)的機械能轉(zhuǎn)換成氣體壓力能的裝置，是壓縮空氣的氣壓發(fā)生裝置。

7、整流器分類

硅整流器設(shè)備、可控硅整流設(shè)備和頻開關(guān)電源設(shè)備。

兩個主要能：

di，將交流電(AC)變成直流電(DC)，經(jīng)濾波后供給負(fù)載，或者供給逆變器;

二，給蓄電池提供充電電壓。

8、抽風(fēng)機

分類：離心式、軸流式。

電鍍生產(chǎn)中常用的是低壓和中壓離心式抽風(fēng)機，風(fēng)量大、效果好。

9、甩干機

電鍍件清洗后須盡快脫水干燥，防止附著殘液產(chǎn)生腐蝕和水漬。

大分甩干機的機蓋都帶有電加熱器。

10、掛具

用于懸掛件并將電流導(dǎo)致件的框架。

掛具類型：常見零件的通用掛具、大批量零件專用掛具、復(fù)雜零件的專用掛具

有的要配備輔助陽、輔助陰或屏蔽板等。

(例：鋁陽氧化、塑料電鍍使用的掛具表面非接點位要有良好的緣層。)

11、鈦籃

安放陽、導(dǎo)電作用。

12、加熱設(shè)備

蒸汽加熱、電加熱

(1)蒸汽加熱：就是使溫蒸汽通過加熱元件，利用熱交換原理加熱;

(2)電加熱：是利用加熱元件使電能轉(zhuǎn)化為熱能。

 

三、電鍍生產(chǎn)線

1、手動型電鍍生產(chǎn)線

手動型生產(chǎn)線通常適用于小批量或貴重金屬電鍍，如鍍鎳、鍍銀、鍍金等，包括整套藝的電鍍缸、水缸及生產(chǎn)線外圍所有的電鍍設(shè)備。

特點：可同時具有2-3個藝流程、滿足多種零件的電鍍藝;系統(tǒng)具有很強的適應(yīng)能力。

2、自動型電鍍生產(chǎn)線

自動型生產(chǎn)線是按照定的電鍍藝過程要求將有關(guān)鍍槽及輔助設(shè)施組合為體的總稱。

優(yōu)點：生產(chǎn)效率、產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定、勞動條件好;

缺點：設(shè)備投資，維護作較復(fù)雜。

3、直線式電鍍生產(chǎn)線(龍門)

直線式電鍍生產(chǎn)線是是把各藝槽排成條直線，在它的上方用帶有特殊吊鉤的電動吊車來傳送掛有件的桿或滾筒。

4、環(huán)形式電鍍生產(chǎn)線

環(huán)形式電鍍生產(chǎn)線的藝槽典型排列方式呈U形，因此又稱為U形自動線。

優(yōu)點：自動化程度，效率，外形美觀;機械運轉(zhuǎn)速度可調(diào)，使鍍件夾持穩(wěn)定;運轉(zhuǎn)周期短;適用于鍍層質(zhì)量要求，大批量，形狀較單，藝成熟的電鍍。

缺點：制費用;占地面積較大;機械結(jié)構(gòu)要求;只適用于中型零件的生產(chǎn)。

5、線(帶)材電鍍生產(chǎn)線

帶料及線材電鍍屬于捲料連續(xù)電鍍過程，其電鍍自動線除連續(xù)電鍍所需各種藝槽和導(dǎo)向?qū)щ娧b置外，還設(shè)有放料和收捲裝置。

(1)帶料電鍍生產(chǎn)線：水平放置，垂直放置。

(2)線材電鍍生產(chǎn)線：水平運動式，垂直浸入式，盤繞式。

6、滾鍍生產(chǎn)線

滾鍍可節(jié)省大量裝卸零件的時間，增加鍍槽的次裝載量。

目前，下列零件般不宜采用滾鍍：

(1)成堆翻滾時容易產(chǎn)生變形的零件;

(2)容易在翻滾時產(chǎn)生“搭橋”現(xiàn)象的枝杈零件;

(3)容易互相粘帖或在滾鍍中容易漂浮的薄片零件;

(4)孔內(nèi)也要求有均勻鍍層或者要求保持棱角的零件;

(5)鍍層厚度超過10μm的零件;

(6)重量超過0.5kg的零件等。

 

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