KDL 真空濺射鍍膜電源

公司簡(jiǎn)介

四川凱德力電源設(shè)備有限公司是一家專(zhuān)業(yè)從事各種交直流電源的開(kāi)發(fā)、研制、生產(chǎn)、銷(xiāo)售和服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。公司集聚了一批長(zhǎng)期從事電源產(chǎn)品開(kāi)發(fā)，制造并接受過(guò)國(guó)際公司專(zhuān)業(yè)培訓(xùn)和實(shí)踐的技術(shù)和管理精英人才，消化吸收了國(guó)外先進(jìn)的技術(shù)和管理經(jīng)驗(yàn)，本著“追求卓越、務(wù)實(shí)創(chuàng)新”的企業(yè)宗旨，經(jīng)過(guò)不懈的努力，確立了企業(yè)的產(chǎn)品質(zhì)量、服務(wù)以及品牌優(yōu)勢(shì)，成為電源系列產(chǎn)品的主要生產(chǎn)研發(fā)基地，
公司自成立以來(lái)一直以線(xiàn)性直流電源，高頻開(kāi)關(guān)直流電源，高頻脈沖電源，高頻水處理電源，高頻電鍍電源，交流變頻電源，交流穩(wěn)壓電源，UPS不間斷電源，正弦波逆變電源，變壓器，調(diào)壓器等為主導(dǎo)產(chǎn)品，經(jīng)過(guò)數(shù)年發(fā)展，現(xiàn)已成為具有多項(xiàng)國(guó)內(nèi)領(lǐng)先技術(shù)，以高科技為基礎(chǔ)的電源生產(chǎn)基地。目前公司生產(chǎn)的產(chǎn)品以其精湛的技術(shù)、一流的品質(zhì)、較高的性?xún)r(jià)比和完善的售后服務(wù)，已廣泛應(yīng)用于各類(lèi)行業(yè)，對(duì)鐵路、金融、稅務(wù)、醫(yī)療、教育、冶金、科研、消防、交通、國(guó)防、航空航天、廣電、市政、電信、郵政、工礦企業(yè)等重要領(lǐng)域提供了卓有成效的解決方案，在應(yīng)用過(guò)程中受到了用戶(hù)一致的好評(píng)與信賴(lài)。年產(chǎn)各種產(chǎn)品達(dá)數(shù)萬(wàn)臺(tái)，用戶(hù)遍及全國(guó)二十多個(gè)省市，部分產(chǎn)品遠(yuǎn)銷(xiāo)國(guó)際市場(chǎng)，深受?chē)?guó)內(nèi)外用戶(hù)的好評(píng)和信賴(lài)。

多年以來(lái)，公司堅(jiān)持“卓越品質(zhì)、卓越服務(wù)”的企業(yè)文化導(dǎo)向，秉承“誠(chéng)信經(jīng)營(yíng)、優(yōu)質(zhì)服務(wù)、技術(shù)領(lǐng)先、長(zhǎng)期合作”的原則，以先進(jìn)的技術(shù)為依托，以市場(chǎng)需求為導(dǎo)向，通過(guò)科學(xué)的管理，向用戶(hù)提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品和滿(mǎn)意的服務(wù)。
  

1、恒流輸出，不隨氣壓變化。 

2、抑制靶材弧光放電及抗短路功能, 具有佳的負(fù)載匹配能力。

3、工藝重復(fù)性好。

4、提高成膜速度， 實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量的濺射膜層。
  詳細(xì)說(shuō)明：
                                          真空鍍膜電源                                       

真空鍍膜行業(yè)不同于以往的電鍍行業(yè)，屬于物理方式的表面處理行業(yè)。廣泛用于各種金屬及非金屬鍍膜裝置，涂鍍光元件、微電子元件、磁性元件、鐘表、種類(lèi)裝飾材料、體育用品、工模具、薄膜包裝等鍍膜制品，以及應(yīng)用于現(xiàn)代工業(yè)、航空航天航海等軍事領(lǐng)域的鍍耐蝕膜、耐磨損膜、固體潤(rùn)滑膜裝置。    真空鍍膜過(guò)程非常復(fù)雜，由于鍍膜原理的不同分為很多種類(lèi)，僅僅因?yàn)槎夹枰哒婵斩?nbsp;                                                                            （HV,UHV）而擁有統(tǒng)一名稱(chēng)。真空鍍膜主要分類(lèi)有兩個(gè)大種類(lèi)：蒸發(fā)沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜，具體則包括很多種類(lèi)，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，溶膠凝膠法等等。                                                      

一、對(duì)于蒸發(fā)鍍膜： 一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來(lái)，并且沉降在基片表面，通過(guò)成膜過(guò)程（散點(diǎn)－島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長(zhǎng)）形成薄膜。                                                                     

 二 對(duì)于濺射類(lèi)鍍膜，可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來(lái)，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過(guò)程，終形成薄膜。
      真空鍍膜電源是真空鍍膜設(shè)備的重要組成部分。例如在真空濺射設(shè)備中就是由濺射室、磁控濺射靶、對(duì)向磁控靶、射頻電源、直流電源、樣品加熱轉(zhuǎn)臺(tái)、真空獲得及測(cè)量系統(tǒng)、電控系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、微機(jī)控制膜層系統(tǒng)等組成。       

      本公司研發(fā)生產(chǎn)的真空鍍膜電源，成功地運(yùn)用了優(yōu)異的脈寬調(diào)制技術(shù)（PWM），引進(jìn)三菱、富士等國(guó)外的IGBT核心執(zhí)行元件，大功率機(jī)器采用結(jié)構(gòu)均流技術(shù)，并配以各種完善的保護(hù)功能，使得高頻開(kāi)關(guān)電源可靠性問(wèn)題得到了圓滿(mǎn)解決，滿(mǎn)足低紋波要求，且體積小、重量輕、節(jié)能環(huán)保，是一種優(yōu)異的直流電源產(chǎn)品，也是可控硅整流電源的替代品。                   

·                               技術(shù)參數(shù)

·                                

·