Quanta450 F 掃描電鏡

2．設備用途:2.1該電鏡主要用于直接觀察導電、不導電樣品的表面形貌及成分分析。2.2要求該設備具有可觀察含水樣品的功能，并能在低真空以及更低真空度的條件下能觀察二次電子像，以滿足研究近似原始狀態(tài)下相關樣品的需求。2.3 該電鏡可作為一個微觀實驗室。對多種樣品保持其原始狀態(tài)下進行動態(tài)原位分析。

北京奧陶科技有限公司同時也是眾多國內、外品牌在中國的代理商，如中石化勘探院石油地質實驗研究中心、上海紐邁、美國巖心公司的覆壓孔滲儀和等溫吸附儀、美國麥克公司的壓汞儀和比表面儀、美國FEI公司的掃描電鏡、賽默飛世爾公司的流變儀、美國GCTS公司的三軸力學、奧林巴斯的顯微鏡和便攜式X射線衍射儀、安捷倫的色譜儀等。

目前已服務的實驗室有：中石化勘探研究院、中石化河南油田研究院、國家煤層氣工程研究中心、中聯(lián)煤晉城實驗室、晉煤集團研究院實驗室、山西蘭花實驗室、新疆地礦局頁巖氣實驗室、中國地質調查局油氣中心頁巖氣實驗室、河南省巖石測試中心、中海油服油化研究院、中海油研究總院、中科煤工集團重慶研究院、遼寧省地質礦產研究院等。

公司免費為石油、煤層氣、頁巖氣、地熱等同行進行實驗室方案設計及整套儀器供應，包括實驗項目實施方案、實驗方法、儀器選型及論證、實驗室平面布置、水電氣路設計、實驗室儀器搬家等。

公司地址：北京市朝陽區(qū)望京西園429號樓里外里公寓1-703

 技術規(guī)格:

3.1電子光學系統(tǒng):

3.1.1分辨率: 二次電子 (SE) 像

3.1.1.1高真空模式：30 kV時1.0 nm；1 kV時3.0 nm

3.1.1.2低真空模式：30 kV時1.4 nm；3 kV時3.0 nm

3.1.1.3 環(huán)境真空模式 (ESEM)：30kV 時 1.4nm

       3.1.2 分辨率: 背散射電子 (BSE) 像：30kV時2.5nm

3.1.3 加速電壓： 0.2kV－30KV

3.1.4放大倍數(shù)：6倍－100萬倍 (四幅圖像顯示)

3.1.5 電子槍：Schottky肖特基場發(fā)射電子槍，zui大束流200nA

3.1.6 物鏡光闌：物鏡光闌應能自加熱自清潔；無需拆卸鏡筒即可更換物鏡光闌

3.1.7 二次電子和背散射電子成像系統(tǒng): 自動調節(jié)和手動調節(jié)亮度、對比度

3.2樣品室

3.2.1樣品臺：五軸馬達驅動，全對中樣品臺

         移動范圍：X =100mm，Y =100mm，Z =60mm

T = -5°to +70°

R= 360°連續(xù)旋轉

3.2.2 樣品室尺寸: 左右內徑284mm

3.2.3分析工作距離 10 mm

3.2.4重復精度：2um (X/Y 方向)

3.2.5 至少8個探測器 / 附件接口

3.3檢測器：

3.3.1高真空模式二次電子檢測器；

3.3.2低真空模式氣體二次電子探頭；

3.3.3 環(huán)境真空模式氣體二次電子探頭

3.3.4低電壓高靈敏度背散射電子檢測器；

3.3.5樣品室紅外CCD相機

3.4數(shù)字圖像記錄系統(tǒng)

3.4.1圖像處理：zui大6144 x 4096像素

3.4.2圖像顯示：單幅圖像顯示或4幅圖像同時顯示 (四活動窗口)

3.4.3圖像記錄: TIFF，BMP或JPEG

3.4.4自動記錄數(shù)字電影 (.avi) 功能

3.4.5 智能掃描 (256幀平均或積分, 線積分或平均, 隔行掃描)

3.4.6 漂移補償幀積分

3.4.7 實時或靜態(tài)按彩色或按灰度等級信號混合

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